일본의 기밀 연구 데이터를 베이징에 위치한 중국 기업에 빼돌린 중국 국적 연구원에게 징역형의 철퇴가 내려졌다.
교도통신에 따르면 25일 도쿄지방법원은 일본 산업기술종합연구소(AIST) 전 수석 연구원 취안헝다오(権恒道·61)에게 영업기밀 유출 혐의로 징역 2년 6개월과 집행유예 4년, 벌금 200만 엔(1950만원)을 선고했다.
취안헝다오는 소속 연구소의 과불화합물(PFAS) 기술 연구 데이터를 중국 기업에 유출한 것으로 알려졌다. 해당 중국 기업은 베이징에 위치한 회사로 취안헝다오의 아내가 대표로 등록된 것이 확인됐다.
재판부는 취안헝다오가 사용한 연구소 컴퓨터가 아이디(ID)와 비밀번호 없이는 접근이 불가능하며, 일정 시간 자리를 비우면 자동으로 접근이 제한되는 보안 시스템이 적용돼 있었다는 점을 들어 그가 직접 이메일을 발송한 것으로 판단했다.
또한 해당 기술은 ‘온실가스 배출을 줄이는 절연 기체 화합물의 고효율 합성 기술’로 상업적 활용 가치가 높다는 점에서 취안헝다오가 해당 기술을 중국 회사로 빼돌려 실용화하려는 목적이 있었던 것으로 보고 “계획적이고 악의적인 범죄”라고 명시했다.
취안헝다오 측 변호인은 중국 기업에서도 과불화합물을 연구·실험하고 있으며 피고인이 넘긴 정보는 기밀이 아니라고 주장했지만 법원은 받아들이지 않았다.
이번 사건을 수사한 일본 경찰은 취안헝다오가 과학 연구에 기여한 공로로 중국 정부로부터 격려를 받았으며 중국 공산당의 해외 인재 영입 프로젝트인 ‘천인계획’에 참여했을 가능성이 있다는 결과를 발표했다.
AIST는 일본 내 12개 연구시설을 두고 약 2300명의 연구원이 활동하는 일본 최대의 국책 연구기관 중 하나로, 세계적 수준의 연구를 수행하는 곳으로 평가된다.
이곳에서 근무했던 전직 연구원은 에포크타임스 일본어판과의 인터뷰에서 취안헝다오에 대해 “매우 폐쇄적인 사람이었으며, 친중 성향이 강하다는 소문이 있었다”며 “그가 중국에 유출한 기술이 얼마나 되는지 정확히 파악하기 어렵다”라고 말했다.
한국·일본서 기술 유출 증가…중국과 관련
중국 국적 직원 혹은 중국인 브로커를 통한 기술 및 인재 유출은 일본만의 문제가 아니다. 반도체와 OLED 분야 등 한국에서도 비슷한 사건이 빈번하게 발생하고 있다.
한국의 경우 지난해 2월 삼성전자 전 고위 임원 김모씨가 중국에 반도체 기술을 유출한 혐의로 징역 7년에 벌금 2억 원을 선고받았다. 김씨는 중국 장신메모리테크놀로지(CXMT)에 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단으로 넘겨줬다.
같은 해 5월에는 SK하이닉스 직원이 화웨이에 반도체 불량률을 낮추는 핵심 기술을 유출한 혐의로 체포됐다. 이 직원 중국 국적의 30대 여성으로 2013년 입사 후 2022년 화웨이로 이직하면서 A4용지 3천 장 분량의 기술 문서를 빼돌렸다는 의심을 받고 있다.
이 직원은 반도체 설계 불량을 분석하는 부서에 몸담고 있다가 2020~2022년 중국 현지 법인의 기업 간 거래 고객 상담 팀장급 직원으로 근무했으며, 2022년 6월 국내 복귀 후 같은 달 고액의 연봉을 받고 화웨이로 옮겼다. 현재 재판이 진행 중이다.
같은 해 7월과 8월에도 각각 LG디스플레이 전 직원과 삼성 OLED 전 연구원이 중국 기업으로 이직하거나 기술을 넘겨줘 처벌을 받았다. 한국 기업이 피땀 흘려 확보한 최소 수천억 원 가치의 기술이 중국에 유출된 것으로 알려졌다.
앞서 일본에서도 2019년 일본 기업에서 근무하던 중국 국적 엔지니어가 자동차 부품 설계도면 164개 이상을 무단 복사해 중국 기업에 넘겨줬다가 체포되는 등 중국으로의 기술 유출에 대한 사회적 경각심이 고조된 바 있다.